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Wavephotonics--超过1000个现成器件LN和SIN器件PDK库,面向量子 光通信 传感 多波长 FAB和研究人员


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#铌酸锂光波导 #氮化硅光波导 #PDK #光子集成线路 #量子器件 #光量子器件 #氮化硅量子器件 #铌酸锂量子器件

铌酸锂和氮化硅器件库,有超过1000个器件可以使用,且可以基于算法,来生成不同波段的 器件。

逻辑:fab提供工艺参数,比如折射率nk等带入到 wavephotonics算法里面,生成器件,针对多波段,多用途。

Wave Photonics 简介

⚫ 核心技术

Wave Photonics 开发了一项核心计算设计技术,用于对集成光子制造工艺进行表

征和建模,进而生成高性能组件的工艺设计套件。

所有 PDK 都包含支持电路仿真的 S 参数

⚫ 适用于 493 纳米至 1550 纳米波长的量子工艺设计套件

Wave Photonics 宣布推出 SiNQ 工艺 —— 这是由 CORNERSTONE 为量子系统和发射器制造的氮化硅工艺。该工艺由全球覆盖范围最广的工艺设计套件(PDK)提供支持,包含 1056 个组件,支持从 493 纳米到 1550 纳米的 33 种波长。SiNQ 专为从事量子 trapped ions and atoms, NV centres、量子点及大量其他量子系统研究的人员设计。该技术能够生成考虑制造缺陷的设计——来自化合物半导体应用弹射器的晶圆级测量数据显示,与传统的逆向设计元件相比,该元件的性能均匀性提高了 2 倍。

PDK 包含用于完整电路建模的制造感知 S 参数,可与 GDSFactory 和西门子 L-Edit 开箱即用,并将很快在 Luceda 的 IPKISS 中提供。它包含每个组件的完整文档,可与交钥匙 QPICPAC 封装服务一起使用,并内置与 PHIX 特性分析包的兼容性。

Wave Photonics 首席执行官 James Lee 表示:“量子技术中使用的波长范围广泛,涵盖可见光区域乃至红外波段,这长期以来一直是光子集成领域的一大挑战。随着 SiNQ 工艺和 PDK 的发布,我们展示了我们一直在构建的设计技术的强大功能和灵活性,并表明可见光区域的光子设计现已成为一项已解决的难题。现在,制作量子光子集成电路就像玩乐高积木一样,只需将预先设计好的积木拼凑在一起即可。”

(目前主要是 Passive PIC PDKs, 但也已经掌握了一些 Active PIC(光收发器等)的专利)

量子应用

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光通信应用

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Wave Photonics 商业模式:

模式 1, 面向光子集成电路(PIC)设计客户

客户可从我们的 PDK 库中选择所需工艺设计套件(PDK). 客户.为每

个使用的 PDK 支付许可费。

若客户所需的 PDK 不在我们的标准库中(如特定波长要求),我们可快

速设计定制化 PDK(凭借我们独特技术,仅需数周而非数月即可完成

定制设计)。客户需支付 PDK 设计费用。

我们还可为客户优化其自有 PDK,以提升性能(如低损耗等)和 / 或

兼容 EDA 工具。客户需支付设计费用。

模式 2. 面向代工厂(Fab Foundry)

o我们也可向代工厂提供PDK,代工厂需支付给我们使用许可费。然

后,他们可以向使用.这些PDK及其Fab服务的客户收费。

#离子注入铒代工

#6寸DUV步进式光刻代工,最小线宽180nm,超高性价比,可以只曝光

#快速氮化硅硅光铌酸锂流片 #高性价比 #低成本

#提供8寸 4.7um 8umSiO2热氧片(铌酸锂钽酸锂调制器) 6寸8um 6寸3um(氮化硅光波导和碳化硅光波导) 6寸 15um(陀螺用)

划重点--销售晶圆和加工

ALOOI晶圆;--氧化铝薄膜晶圆,键合工艺和镀膜工艺

TAOOI晶圆--氧化钽薄膜晶圆,镀膜工艺

SINOI晶圆;--超低损耗氮化硅薄膜晶圆

SICOI晶圆;新型量子光学平台

6寸LTOI晶圆批量供应;铌酸锂的有力的竞争对手,薄膜钽酸锂晶圆

8寸LNOI晶圆;8寸LNOI助力更大规模薄膜铌酸锂产品量产

LN/LT-SOI/Si/SIN  W2W&D2W异质集成

流片: 6寸 氮化硅 铌酸锂 硅光 超高性价比流片, 1个BLOCK的价格买一整片晶圆

划重点--全国产-超高性价比-6 寸硅光-氮化硅-铌酸锂流片白皮书

我们为客户提供晶圆(硅晶圆,玻璃晶圆,SOI晶圆,GaAs,蓝宝石,碳化硅(导电,非绝缘),Ga2O3,金刚石,GaN(外延片/衬底)),镀膜(PVD,cvd,Ald,PLD)和材料(Au Cu Ag Pt Al Cr Ti Ni Sio2 Tio2 Ti3O5,Ta2O5,ZrO2,TiN,ALN,ZnO,HfO2。。更多材料),键合(石英石英键合,蓝宝石蓝宝石键合)光刻,高精度掩模版,外延,掺杂,电子束光刻等产品及加工服务(请找小编领取我们晶圆标品库存列表,为您的科学实验加速。

请联系小编免费获取原文


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关于我们:

OMeda成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合)等领域拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。

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来源:OMeda

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OMeda(上海奥麦达微)成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合,键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学,激光器,光子集成电路,Micro LED,功率器件等行业。

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