硅光波导流片
很高兴您在这个网页看到了我们的硅光波导的加工服务
关于硅光波导的加工,目前我们提供2种加工服务。
A.电子束光刻加工光波导
优势:可以实现100nm以内波导线宽
缺点:单次加工仅出一片,性价比低
可以通过LPCVD和PECVD两种方式沉积SiO2包层,后道的晶圆切割,端面抛光
B.6寸150nmDUV流片线
优势:性价比高,一次流片可以出一个晶圆
片源尺寸:6inch
线宽:大于180nm
刻蚀深度:70nm/130nm/220nm+-10nm
套刻误差:+-50nm
波导损耗:直波导损耗2-3db/cm
加热电极:TiN热电极
光栅耦合损耗:3.8dB
1×2MMI插损:0.043dB/端
2×2MMI插损:0.27dB/个
定向耦合器:自定义分光比
All-Pass微环Q:>10的5次方
交叉波导损耗:0.028db/个
微环调制器 带宽:>30Ghz
电光开关消光比:45dB
PN调制器带宽:>30Ghz