150nmDUV步进式光刻
我们提供 150nm DUV 步进光刻服务，机器品牌和型号是佳能 FPA-3030EX6，这台机器由佳能设计和制造。
其最小线宽为 150 nm，可用于大批量生产。该设备具有全自动旋涂、显影和曝光功能，一小时可处理 20 片 6 英寸晶圆。其速度惊人，可大大降低光刻成本，提高光刻效率。
加工能力：
• 设备型号：Canon FPX-3030-EX6
• 基片尺寸：4/6 英寸
• 最小线宽：150 nm
• 掩模缩放比：5 : 1
• 对准精度: ≤40 nm
• 对焦精度: ≤100 nm
• 步进精度: ≤20 nm
• 套刻精度：30-50nm
应用领域：150nm线宽以上的各种微纳结构的加工，衍射光波导，超结构，氮化硅，铌酸锂，硅光波导，其他微纳结构
加工流程：客户提供GDS版图，由我司来制版加工，切割，最后提供成品给客户，一般一轮的交付周期为3-4周（从制版到发货）
制版说明：
