双光子3D打印
加工能力：
●光刻胶的折射率:1.56
●特征尺寸:横向200纳米，纵向400纳米
●深宽比:5:1。
●最大尺寸:500um*500um
●最大高度:100um
●基板:玻璃/光纤/其他光滑基底
●打印形状：微针，微透镜，光纤端面结构，衍射结构，其他微纳结构
支持的胶水：IP-S,IP-DIP,IP-PDMS
国产胶水：
基本原理：
双光子3D打印（Two-Photon Polymerization, TPP）是一种先进的光刻技术，利用双光子吸收效应，通过高精度激光聚焦在光敏材料中形成三维微纳结构。以下是双光子3D打印的基本原理、工艺流程、应用场景、优点和刻蚀精度的详细介绍：
双光子3D打印利用飞秒激光（通常是近红外光）聚焦在光敏材料上，通过双光子吸收效应引发聚合反应：
1. 双光子吸收：在光敏材料中，两个光子同时被一个分子吸收，激发电子跃迁到更高能态，引发化学反应。
2. 聚合反应：在光敏材料中，激发的分子引发单体聚合反应，形成固态的聚合物。
3. 高分辨率：由于双光子吸收仅在激光焦点处发生，能量集中在极小体积内，可以形成高分辨率的三维结构。
设备介绍：
●品牌:Nanoscribe
●系列:Photonics Pro GT2
●最小XY特征尺寸:典型为160 nm；指定为200 nm*
●最精确的XY分辨率:典型值为400 nm；指定值为500 nm*
●最精确的垂直分辨率:典型值为1，000纳米；指定值为1，500纳米*
工艺流程：
1. 光敏材料准备：选择并制备适当的光敏材料，如光敏树脂，涂覆或填充在基底上。
2. 激光聚焦：通过显微镜物镜将飞秒激光聚焦到光敏材料内部的特定位置。
3. 图案设计：通过计算机控制三维运动平台，按预定图案移动激光焦点，逐层扫描曝光。
4. 聚合反应：激光焦点处的材料发生聚合反应，形成固态结构。
5.未反应材料去除：曝光完成后，将未聚合的光敏材料洗掉，仅保留固化的三维结构。
应用场景：
双光子3D打印广泛应用于以下领域：
微机电系统（MEMS）：用于制作高精度的微结构和微器件。
生物医学工程：如组织工程支架、微流控芯片和仿生结构的制作。
光子学：如光子晶体、光学器件和波导的制作。
材料科学：用于研究新材料和纳米结构。
优点：
超高分辨率：能够实现亚微米级甚至纳米级分辨率，适用于复杂微纳结构的制作。
三维自由度**：能够在三维空间内任意位置聚焦，制作复杂的三维结构。
材料多样性：适用于多种光敏材料，包括有机和无机材料。
非接触加工：无需物理掩膜或模具，减少了加工过程中的损伤和污染。
刻蚀精度：
双光子3D打印的刻蚀精度非常高，具体取决于以下因素：
-激光波长和脉宽：短波长和超短脉宽的激光能够提供更高的分辨率。
光敏材料特性：高灵敏度和高分辨率的光敏材料有助于实现更细微的结构。
聚焦光斑尺寸：通过高数值孔径（NA）的物镜可以实现更小的聚焦光斑尺寸。
扫描精度：高精度的三维运动平台能够确保激光焦点的准确定位，避免误差积累。
总体而言，双光子3D打印是一种高精度、高分辨率的微纳加工技术，适用于制作复杂的三维微结构，广泛应用于生物医学、微电子、光子学等领域。其独特的双光子吸收效应使其能够在三维空间内自由构建，成为纳米制造技术的重要工具。
