薄膜钽酸锂晶圆

应用:

SAW表面声波器件--POI晶圆

TFLT PIC薄膜钽酸锂光子集成电路

支持的尺寸:4寸 6寸 8寸 

加工工艺:亲水键合+高温退火,表面活化键合(室温键合,无需退火)

定制加工:除了标准LNOI,LTOI晶圆之外,我们同时提供LNOI,LTOI晶圆的定制化加工服务。

我们的优势:全流程 全面的加工能力 

*离子注入

*减薄和抛光

*表面活化键合

*亲水键合

*退火

全面的加工能力可以为您提供快速,高效的定制化加工服务。


关于我们

OMeda(上海奥麦达微)成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合,键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学,激光器,光子集成电路,Micro LED,功率器件等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务。

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