接触式光刻加工_光刻_微纳加工服务_上海奥麦达微电子有限公司

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接触式光刻加工

基本原理：

通过光学投影系统，图案被照射到光刻胶上，引起光刻胶的化学变化，使其能够被溶剂所溶解。特定区域的光刻胶区域被去除，从而将掩膜版上的图形转移到晶圆上。掩膜版上的图案与光刻胶层上图案的比例为1:1。

加工能力：

接触式光刻机（MA6、EVG)

样品大小:1cm*1cm小片儿、2寸、4寸、6寸、8寸

最小线宽间距 2um 套刻精度±1um

关于我们

OMeda（上海奥麦达微）成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。目前拥有员工15人，在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合，键合)等工艺拥有丰富的经验。同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学，激光器，光子集成电路，Micro LED,功率器件等行业。我们将凭借先进的设备、仪器和经验，为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务。

专业高效微纳加工公司

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