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    深硅刻蚀

    设备名称：深反应等离子体刻蚀系统

    品牌型号：SPTS Omega LPX Rapier
    主要功能：刻蚀各类硅基材料，尤其适用于高深宽比的刻蚀工艺

    尺寸：最大8英寸

    案例展示：

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