深硅刻蚀_刻蚀_微纳加工服务_上海奥麦达微电子有限公司

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深硅刻蚀

设备名称：深反应等离子体刻蚀系统

品牌型号：SPTS Omega LPX Rapier

主要功能：刻蚀各类硅基材料，尤其适用于高深宽比的刻蚀工艺

尺寸：最大8英寸

案例展示：

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关于我们

OMeda（上海奥麦达微）成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。目前拥有员工15人，在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合，键合)等工艺拥有丰富的经验。同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学，激光器，光子集成电路，Micro LED,功率器件等行业。我们将凭借先进的设备、仪器和经验，为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务。

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