镀金晶圆
镀金晶圆尺寸:
4寸到最大12寸
镀金工艺:
磁控溅射镀膜和 真空蒸发镀膜
真空蒸发镀金特点:
单炉为镀膜伞,产量高(单炉6寸20+片),综合成本低,但是膜层的牢固度和致密性等不如磁控溅射工艺
磁控溅射镀金的特点:
多为单片炉,单炉产良低,相对单价高。
我们的特色,我司具有连续式磁控溅射镀金产线,单炉镀金成本相对较低。也有多片式镀金设备,单炉可以产出20+片6寸晶圆,综合成本相对较低,拥有相对较高的性价比。
镀金晶圆尺寸:
4寸到最大12寸
镀金工艺:
磁控溅射镀膜和 真空蒸发镀膜
真空蒸发镀金特点:
单炉为镀膜伞,产量高(单炉6寸20+片),综合成本低,但是膜层的牢固度和致密性等不如磁控溅射工艺
磁控溅射镀金的特点:
多为单片炉,单炉产良低,相对单价高。
我们的特色,我司具有连续式磁控溅射镀金产线,单炉镀金成本相对较低。也有多片式镀金设备,单炉可以产出20+片6寸晶圆,综合成本相对较低,拥有相对较高的性价比。