镀金晶圆


镀金晶圆尺寸:

4寸到最大12寸

镀金工艺:

磁控溅射镀膜和 真空蒸发镀膜

真空蒸发镀金特点:

单炉为镀膜伞,产量高(单炉6寸20+片),综合成本低,但是膜层的牢固度和致密性等不如磁控溅射工艺

磁控溅射镀金的特点:

多为单片炉,单炉产良低,相对单价高。

我们的特色,我司具有连续式磁控溅射镀金产线,单炉镀金成本相对较低。也有多片式镀金设备,单炉可以产出20+片6寸晶圆,综合成本相对较低,拥有相对较高的性价比。