双光子灰度光刻-Nanoscribe推出2GL®的3D打印技术,以无与伦比的速度实现卓越的质量

本文将会分享Nanoscribe的双光子光刻技术的一个简单介绍及一些实战案例。

注:本文译自nanoscibe官网

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Nanoscribe引入了一种全新的3D微纳加工技术:2GL的3D打印 ® 。双光子灰度光刻 (2GL) 现在为 3D 纳米和微纳加工设定了全新的标准。该技术将高分辨率的双光子聚合 (2PP) 与独特的专利体素调谐工艺相结合,以显着减少打印层数。这使得 2GL 成为最快的基于 2PP 的 3D 打印技术,具有无与伦比的形状精度和卓越的打印质量。它为新的应用铺平了道路,例如在更短的打印时间内制造出质量更高的细丝微光学系统。这就是为什么 3D 灰度打印现在是 Quantum X align 的一项新功能。

Nanoscribe的Quantum X平台凭借其获得专利的双光子灰度光刻技术,用于光学级2D和2.5D微结构的增材制造,已成为工业制造和掌握微光学的首选平台。现在,Nanoscribe将体素调谐技术引入第三维度,引入2GL的3D打印技术,作为Quantum X align的对齐双光子光刻(A2PL ® )功能的重要补充。

无可比拟的精度和出色的形状精度

打印过程依赖于激光功率的实时动态调制,同时以最高速度进行扫描。这样可以精确调整聚合体素的尺寸,以完美匹配任何 3D 形状的轮廓。2GL 的 3D 打印保证了完美无瑕的光学级表面和最精细的亚微米特征,没有任何切片步骤或形状变形,只是任何 3D 打印设计的真实形状。

吞吐量提高 60 倍

2GL的3D打印是市场上最快的基于2PP的微纳加工技术。其动态体素调整需要的打印层数要少得多,才能获得光学级、光滑和纳米结构表面的打印效果。这意味着制造速度是任何基于 2PP 的 3D 打印机都无法达到的。市场上最快的 3D 纳米和微纳加工增材制造技术,在满足苛刻的打印质量要求时,其吞吐量是当前任何 2 光子光刻系统的 10 到 60 倍。

光子应用的新机遇

2GL 的 3D 打印可提供最高的光学级质量、最精细的亚微米特征和以前无法想象的高吞吐量。因此,它极大地推动了微光学制造和光子学封装的发展。Nanoscribe Quantum X与Aligned 2光子光刻 ® 技术相结合,配备了这种全新的打印技术,并由先进的对准软件nanoPrintX提供支持。

Quantum X align 经过优化,可打印具有最高贴装精度的微光学元件,并可在光纤和光子芯片上自动对准。凭借全新的制造质量和速度水平,2GL 的 3D 打印为推进自由空间微光学耦合 (FSMOC) 的工业化铺平了道路,它是一种用于光子封装和集成的高度强大和高效的光耦合解决方案。

突破 3D 微纳加工的极限

2GL的3D打印真正标志着基于2PP的3D微纳加工的新时代。除了微光学和光子学之外,这项技术还有许多潜在的用例,其中最快的打印速度、光学质量的表面、最精细的亚微米细节或纹理表面是关键。准备好对令人惊叹的打印质量和高达 60 倍的吞吐量印象深刻。


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3D打印的Benchy船分为两部分。左侧部分由2GL3D打印。右侧零件采用传统的基于2PP的3D打印制成。两个零件的打印距离完全相同,因此打印时间相同。然而,使用2GL,没有切片步骤,Benchy船的真实形状被揭示出来,没有任何与体素相关的失真。

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使用极具竞争力的 2PP 系统(左)和 2GL 3D 打印(右)进行 3D 打印的 Benchy 船的速度比较。为了获得尽可能高的打印质量,2PP 打印船的切片距离设置为 0.1 µm(“精细”)。相比之下,同一个物体是通过 2GL(“灰度”)进行 3D 打印的,其切片明显更粗糙,为 1 µm,导致打印时间缩短了 10 倍。

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该显微镜图像展示了微内窥镜镜头,该镜头与光纤的端面完美对齐并由 2GL 3D 打印。顶部镜头所展现的光学亮度表明了卓越的打印质量。由 Nanoscribe 制造,由 Printoptix 设计镜头。

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堆叠透镜系统的特写镜头,显示了自由曲面顶部透镜和中央混合透镜及其衍射元件。2GL 的 3D 打印能够打印光学光滑的表面,无需任何切片步骤,并具有衍射元件所需的锋利边缘。由Nanoscribe制造,镜头由Printoptix设计。

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堆叠透镜系统中间部分的特写。自由曲面镜片可以直立打印,也可以一次性打印为悬挂式特征,无需任何切片步骤。2GL 3D 打印可以同时制造具有复杂特征的纹理表面和镜片。由 Nanoscribe 制造,由 Printoptix 设计镜头。

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2GL® 革命性的 3D 打印技术是对齐双光子光刻系统 QuantumX 的完美伴侣。

关于我们:

OMeda成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合)等领域拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务

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来源:OMeda

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