ALD镀膜--原子层沉积技术在光学镀膜中的应用

本文文章来自苏州做光学镀膜的读者投稿,主要是关于ald原子层镀膜技术在超低反射率镀膜和3d形状产品镀膜的优势。根据这位读者的反馈,目前全球的头部手机厂家都在积极的推动ald技术在摄像头产品上的应用。

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ALD镀膜--大批量超低反射保形曲面光学镀膜

光学镀膜广泛应用于日常生活中

滤光片、AR  镀膜、HR  镀膜,相机镜头、激光雷达球罩、光伏组件、显示屏、眼镜、光通信

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应用案例--手机摄像头

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带ald镀膜的和不带ald镀膜效果对比图

相机镜头为何采用  ALD?

1.光学元件和系统变得越来越复杂

→  需要更多的保形涂层方法

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2.传统  ARC  方法在常见波长下的性能有限 →   需要更好

的抗反射性能,尤其是在大入射角下

→  仅适用于蛾眼型涂层结构

→  仅适用于蛾眼型涂层结构

→  首次使用 A LD  生产草状氧化铝

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广角宽带抗反射涂层

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D263  玻璃AtomGrass涂层

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‧  Beneq  解决方案将草状氧化铝与光学堆栈相结合  ‧ 可 以调整薄膜堆栈以增加带宽或最小反射率

‧  D263 硼 硅酸盐玻璃基板的示例,也适用于聚合物基板

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为什么一般使用  ALD  进行光学镀膜?

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原子层沉积 –   优点

 A LD  涂层还具有光学方面的其他优势

✓  缺陷少(针孔、颗粒)

✓  低表面粗糙度  → 低 光学损耗

✓  薄膜厚度精确控制至  <  1 Å   规模

✓  致密涂层 →   ⾼激光损伤阈值

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关于我们:

OMeda成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合)等领域拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务

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