本文文章来自苏州做光学镀膜的读者投稿，主要是关于ald原子层镀膜技术在超低反射率镀膜和3d形状产品镀膜的优势。根据这位读者的反馈，目前全球的头部手机厂家都在积极的推动ald技术在摄像头产品上的应用。
如果你也爱好 半导体，光学，光纤，硅光集成等技术及应用，可以添加小编，一起畅聊技术，市场和应用。
ALD镀膜--大批量超低反射保形曲面光学镀膜
光学镀膜广泛应用于日常生活中
滤光片、AR 镀膜、HR 镀膜，相机镜头、激光雷达球罩、光伏组件、显示屏、眼镜、光通信
应用案例--手机摄像头
带ald镀膜的和不带ald镀膜效果对比图
相机镜头为何采用 ALD？
1.光学元件和系统变得越来越复杂
→ 需要更多的保形涂层方法
2.传统 ARC 方法在常见波长下的性能有限 → 需要更好
的抗反射性能，尤其是在大入射角下
→ 仅适用于蛾眼型涂层结构
→ 仅适用于蛾眼型涂层结构
→ 首次使用 A LD 生产草状氧化铝
广角宽带抗反射涂层
D263 玻璃AtomGrass涂层
‧ Beneq 解决方案将草状氧化铝与光学堆栈相结合 ‧ 可 以调整薄膜堆栈以增加带宽或最小反射率
‧ D263 硼 硅酸盐玻璃基板的示例，也适用于聚合物基板
为什么一般使用 ALD 进行光学镀膜？
原子层沉积 – 优点
A LD 涂层还具有光学方面的其他优势
✓ 缺陷少（针孔、颗粒）
✓ 低表面粗糙度 → 低 光学损耗
✓ 薄膜厚度精确控制至 < 1 Å 规模
✓ 致密涂层 → ⾼激光损伤阈值
关于我们：
OMeda成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。目前拥有员工15人，在微纳加工（涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合）等领域拥有丰富的经验。 同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验，为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务
中国（上海）自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话：+86 188 233 40140 邮箱：jing.chen@omeda-optics.com
来源：OMeda
OMeda（上海奥麦达微）成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。目前拥有员工15人，在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合，键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学，激光器，光子集成电路，Micro LED,功率器件等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验，为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务。
