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光学⽤同成分 铌酸锂(CLN)晶圆
切向 | X-Z ;Z-X | ||||||
直径 | 76.2±0.2mm | 100.0±0.2mm | 150.0±0.2mm | ||||
主基准⾯⻓度(OF) | 22±2mm | 32±2mm | 47.5±2mm | ||||
第⼆基准⾯ | 根据客户要求而定 | ||||||
厚度 | 180~250±20μm, 350±20μm, 500±20μm | ||||||
翘曲度(WARP) | <25μm | ||||||
弯曲度(BOW) | -25μm<BOW<25μm | ||||||
PLT | >95%(5mm*5mm) | ||||||
TTV | <5μm | ||||||
缺陷数量(直径<0.3μm) | <500个 |
光学⽤同成分 铌酸锂(CLN)晶圆光学基本性能指标
居⾥温度(℃) | 1142±1 | |
光学均匀性(∆n/cm) | Δn<10 -5/cm | |
消光系数 | <0.0001 | |
应⽤领域 | 制作电光、非线性光学器件 | |
关于我们:
OMeda成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合)等领域拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务
中国(上海)自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话:+86 188 233 40140 邮箱:jing.chen@omeda-optics.com
来源:OMeda
OMeda(上海奥麦达微)成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合,键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学,激光器,光子集成电路,Micro LED,功率器件等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务。