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近化学计量⽐ 钽酸锂（NSLT）晶圆
| 切向 | X-Z ；Z-X | ||
| 直径 | 76.2±0.2mm | 100.0±0.2mm | 150.0±0.2mm |
| 主基准⾯⻓度（OF） | 22±2mm | 32±2mm | 47.5±2mm |
| 第⼆基准⾯ | 根据客户要求而定 | ||
| 厚度 | 180~250±20μm, 350±20μm, 500±20μm | ||
| 翘曲度(WARP） | <25μm | ||
| 弯曲度（BOW) | -25μm<BOW<25μm | ||
| PLTV | >95%(5mm*5mm) | ||
| TTV | <5μm | ||
| 表⾯缺陷数量（直径<0.3μm) | <500个 | ||
| 应⽤领域 | 非线性光学和畴工程 | ||
近化学计量比钽酸锂（NSLT）晶片光学基本性能指标：
| 性能 | 同成分LiTaO３(CLT) | 化学计量比LiTaO３(NSLT) |
| 居⾥温度（℃） | 605 | 701 |
| Ｌｉ/T | 48.5/51.5 | 49.9/50.1 |
| 线性电光系数 ＠λ=632.8nm(pm/V) | r13=8.0 r33=32.2 | r13=8.1 r33=35.5 |
| ⾮线性光学系数 ＠λ=1064nm(pm/V) | d13= 2.3 d33=26.2 | d13= 2.5 d33=30.4 |
| 矫顽场（室温）ＫＶ/ｍ ｍ | ~21 | <0.6 |
关于我们：
OMeda成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。目前拥有员工15人，在微纳加工（涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合）等领域拥有丰富的经验。 同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验，为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务
中国（上海）自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话：+86 188 233 40140 邮箱：jing.chen@omeda-optics.com
来源：OMeda
OMeda（上海奥麦达微）成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。目前拥有员工15人，在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合，键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学，激光器，光子集成电路，Micro LED,功率器件等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验，为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务。
