上海奥麦达微电子有限公司

专业高效
微纳加工公司

声表⾯波⽤ ⾼锂钽酸锂(HLT)晶⽚

声表⾯波⽤ ⾼锂钽酸锂(HLT)晶⽚

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切向Y36°-X ;Y42°-X





直径76.2±0.2mm100.0±0.2mm150.0±0.2mm





主基准⾯⻓度(OF)22±2mm32±2mm47.5±2mm





居⾥温度675±5℃







第⼆基准⾯根据客户要求而定







厚度180~250±20μm, 350±20μm







翘曲度(WARP)<25μm







弯曲度(BOW)-25μm<BOW<25μm







TTV<5μm







PLTVLTV<1μm)>95%(5mm*5mm)







正⾯粗糙度(Ra)<1nm







背⾯粗糙度(Ra)GC1000#及客户定制







表⾯缺陷数量(直径<0.3μm)<500个







应⽤领域





对温度稳定性和机电耦合系数有特殊要求的声表面波器件








声表面波高锂钽酸锂晶片(HIGT Li LiTaO3; HLT)声学基本性能指标:

切向Y36°Y36°
波传输⽅向XX
机电耦合系数(%) 温度漂移系数(ppm/℃)9.611.2
温度漂移系数(ppm/℃)-12-18.3
声表⾯波波速(m/s)41964078
























关于我们:

OMeda成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合)等领域拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务

中国(上海)自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话:+86 188 233 40140 邮箱:jing.chen@omeda-optics.com

来源:OMeda

关于我们

OMeda(上海奥麦达微)成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合,键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学,激光器,光子集成电路,Micro LED,功率器件等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务。

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