上海奥麦达微电子有限公司

专业高效
微纳加工公司

碳化硅基薄膜铌酸锂晶圆--声学器件从Sub-6GHz到X波段的成本效益频率标定研究,基于SiC基薄膜铌酸锂的研究(东南清华好达)

#SAW器件#表面声波器件#sicln晶圆#碳化硅基薄膜铌酸锂晶圆 #BAW器件 #叉指换能器 #叉指电极

划重点:从晶圆 到器件加工 
#SIC-LN薄膜晶圆 6寸 
#电子束光刻小片级验证高频器件
#6寸DUV步进式KRF光刻验证晶圆级高频器件
#深硅刻蚀 #电极加工

摘要
宽频带频率缩放的声学器件对于射频(RF)前端来说,能够满足通信场景中的不同频段需求。本工作展示了一种具有成本效益的频率缩放解决方案,涵盖了从6 GHz以下到X波段的频率,通过在单片锂铌酸盐/4H-SiC(LN/SiC)异质结构上的平面表面声波(SAW)工艺实现。通过选择性地激发三种声学模式,即横向剪切表面声波(SH-SAW)、纵向泄漏表面声波(LLSAW)和高阶剪切垂直(SV)模式,利用模式特定的激发,我们在统一的LN/SiC平台上集成了多频段功能。使用单一掩模KrF光刻工艺,在高质量的LN/SiC晶圆上制造了从3 GHz到12 GHz的高性能谐振器和滤波器。这些器件涵盖了5G NR的关键频段(n77/n79)和Wi-Fi 6/6E通道,同时进一步扩展了SAW器件的应用至X波段。本方法为宽带声学器件的集成提供了一个低成本且可扩展的制造路径。

#本文工艺全流程加工

#图案化电极 #深硅刻蚀 #LN-SIC晶圆加工  #芯片划切

#P3F晶圆

其他声学类加工 :

#磁控溅射AlScN #磁控溅射镀Mo #磁控溅射镀pt

#全国产SOI晶圆定制加工   #468寸50nm-15um热氧片

#尺寸4-8寸 

#最小起订量1片

#热氧层厚度范围50nm-15um

#膜厚精度最高精度+-5nm

#厚膜SOI-减薄抛光工艺600nm到微米级,加离子束精修,超级高精度膜厚均匀性

 #CavitySOI-带空腔SOI晶圆,光刻显影刻蚀键合制作SOI一条龙

普通超薄:SMARTCUT+离子束精修

超级超薄:EPI+SMARTCUT+离子束精修

#超平硅片-TTV500nm

我们为客户提供晶圆(硅晶圆,玻璃晶圆,SOI晶圆,GaAs,蓝宝石,碳化硅(导电,非绝缘),Ga2O3,金刚石,GaN(外延片/衬底)),镀膜(PVD,cvd,Ald,PLD)和材料(Au Cu Ag Pt Al Cr Ti Ni Sio2 Tio2 Ti3O5,Ta2O5,ZrO2,TiN,ALN,ZnO,HfO2。。更多材料),键合(石英石英键合,蓝宝石蓝宝石键合)光刻,高精度掩模版,外延,掺杂,6寸DUVKRF电子束光刻等产品及加工服务(请找小编领取我们晶圆标品库存列表,为您的科学实验加速。

请联系小编免费获取原文

图片


作者:李斌1、#,高家军1、#,付素蕾1、#、,肖博远1,徐秋峰1,周新晨1,马浩琴1,谢寿仁1,徐志斌2,张帅3,王瑞1,宋成1、,曾飞1,王伟彪3,潘峰1、

单位:* 1中国清华大学材料科学与工程学院先进材料重点实验室,北京,中国。2中国东南大学机械工程学院,南京,中国。3江苏无锡好达电子有限公司,中国。

I. 引言
下一代无线通信系统,如5G、6G及以后,要求具有频率可缩放、微型化并高度集成的多频段滤波器解决方案。高频声学滤波技术主要包括体声波(BAW)器件,如薄膜体声波谐振器(FBAR)和固体安装谐振器(SMR),以及横向激发体声波谐振器(XBAR)。这些架构普遍需要复杂的多步骤工艺来构建核心组件,如气腔或布拉格反射器,从而导致高昂的制造成本和有限的可扩展性。尽管通过修整技术可以实现频率缩放,但这进一步增加了工艺的复杂性。

相比之下,低成本表面声波(SAW)技术的结构进展,如温度补偿SAW(TC-SAW)和高性能SAW(IHP-SAW),改善了温度稳定性(TCF)和传播损耗。然而,由于固有的声速限制,SAW器件仍然仅限于3 GHz以下的频率,并且难以满足5G新无线电(NR)的宽带需求。虽然商业化的BAW和SAW技术提供了互补的性能指标,但它们在射频前端的高密度集成中常常存在妥协。因此,解决高频可扩展性与低成本制造之间的差距仍然是一个未解决的问题。

在本工作中,我们展示了一种在LN/SiC平台上实现的具有成本效益的频率缩放解决方案,涵盖了从6 GHz以下到X波段的声学器件。通过在这一异质结构上策略性地激发三种不同的声学模式(SH-SAW、LLSAW和高阶SV模式),我们实现了多频段功能,而无需在架构之间做出妥协。通过标准KrF光刻工艺制造的晶圆级谐振器和滤波器,操作频率范围为3-12 GHz(涵盖5G n77/n79、Wi-Fi 6/6E,并扩展至X波段),验证了该平台固有的可扩展性。

II. 设备设计与仿真
为了更准确地捕捉三种声学模式的色散特性,我们对大耦合锂铌酸盐(LN)进行了特征模态有限元分析(FEM)。模拟得到的色散相速度和耦合系数(K²)如图3所示。SH-SAW具有固有的较低速度(约4000 m/s)和巨大的K²(40%-50%),即使操作频率通常低于5 GHz,仍具有实现宽带设备的潜力,特别是针对5G n77和n79频段。作为一种非常有前景的候选模式,LLSAW的相速度为约7000 m/s,比SH-SAW高出至少1.5倍,并具有较大的K²,使其适合于高频操作并具有较大的带宽。此外,高阶SV模式具有超过10000 m/s的高相速度和适中的K²,表明其在SAW技术上有极大的潜力,可以扩展到X波段应用。

III. 制造与测量
根据上述分析,三种类型的6英寸LNOI晶圆(15°Y-X LN(190nm)/SiC、X-LN(250nm)/SiC和128°Y-X LN(210nm)/SiC)通过智能切割技术结合化学机械抛光(CMP)制造。随后,利用成本效益的KrF光刻和剥离工艺,在薄膜LN/SiC晶圆上图案化SAW器件。图5显示了所使用的不同LN/SiC晶圆和制备过程。
在测量方面,图6展示了SH-SAW、LLSAW和高阶SV模式谐振器的测量阻抗响应,所有谐振器在三种LN/SiC平台上都展现出出色的信号,操作频率扩展到11 GHz,并几乎没有旁通模式,表明通过采用LN/SiC双层结构,使用标准KrF光刻和剥离技术设计不同的带通滤波器是可行的。

IV. 结论
本研究建立了一种高效的声学集成方法,利用LN/SiC平台上多种模式的互补特性。所展示的器件涵盖了广泛的频率范围,采用成本效益的工艺流程,提供了一条面向5G和6G射频前端应用的低成本、宽带解决方案的实际路径。

致谢
感谢中国国家重点研发计划(项目编号:2022YFB3606700)的支持。

图1.
 射频(RF)滤波器的发展趋势。SAW的平面技术使其成为一种低成本且具有频率缩放能力的解决方案。

图2. SAW滤波器的路线图。LN/SiC平台在温度稳定性、传播损耗、带宽(BW)和工作频率(Freq)方面表现优越。


图3.
(a) SH-SAW、LLSAW和高阶SV模式的相速度;
(b) SH-SAW、LLSAW和高阶SV模式的耦合系数。
图4.
 在LN/Si和LN/SiC上的谐振器模拟导纳曲线。
在LN/SiC上避免了声能泄漏,从而保持了优异的器件响应。
图5.
(a) 在薄膜LN/SiC晶圆上制造SAW器件的工艺流程;
(b) LN/4H-SiC键合界面的超声扫描图像;
(c) 薄膜LN/SiC晶圆的制造图像;
(d) 使用成本效益的KrF光刻工艺制造的器件;
(e) (110)晶面的XRD摇摆曲线;
(f) LN薄膜和SiC衬底的TEM图像;
(g) λ = 2 μm的谐振器的光学显微镜和扫描电子显微镜(SEM)图像
图6.
在LN/SiC平台上,具有不同波长的SH-SAW、LLSAW和高阶SV模式谐振器的测量导纳曲线。

图7.
(a) SH-SAW谐振器(λ=0.95 μm)的测量和mBVD拟合导纳响应;
(b) SH-SAW谐振器的Bode-Q曲线。


图8.
(a) LLSAW谐振器(λ=0.95 μm)的测量和mBVD拟合导纳响应;
(b) LLSAW谐振器的Bode-Q曲线。
图9.
(a) 高阶SV模式谐振器(λ=1.08 μm)的测量和mBVD拟合导纳响应;
(b) 高阶SV模式谐振器的Bode-Q曲线。

图10.
(a) LLSAW谐振器在不同工作温度下的测量导纳响应;
(b) 高阶SV模式谐振器在不同工作温度下的测量导纳响应。


图11.
制造的SH-SAW、LLSAW和高阶SV模式滤波器的测量S21响应,涵盖从5G NR、WiFi-6到X波段。插图显示了典型的阶梯型滤波器。


图12.
(a) SH-SAW滤波器的测量放大通带响应;
(b) LLSAW滤波器的测量放大通带响应;
(c) 高阶SV模式滤波器的测量放大通带响应。图中提供了插入损耗和3-dB分数带宽的性能指标。

关于我们:

OMeda成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合)等领域拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。

中国(上海)自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话:+86 188 233 40140 邮箱:jing.chen@omeda-optics.com

来源:OMeda

关于我们

OMeda(上海奥麦达微)成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合,键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学,激光器,光子集成电路,Micro LED,功率器件等行业。

姓名:*
邮件:*
公司名称:
电话:*
您的需求: