薄膜工艺实验室--蒸发镀膜/溅射镀膜/原子层沉积多种金属和氧化物能力代工介绍

本文小编总结了一下半导体微纳实验室用于光学和半导体薄膜沉积能力总结。期待未来能够大家的科研提供帮助。

我们的优势在于,可以提供 半导体单层金属和氧化物薄膜,以及复杂多层光学类 介质膜的沉积,针对利用开发半导体工艺类光学传感器的复合需求提出我们的解决方案。

●基板:玻璃/硅/SiC/GaN/金刚石/陶瓷/PI(聚酰亚胺)/PET

●晶圆尺寸:4英寸/6英寸/8英寸/12英寸,最大600mm

●镀膜方式:真空蒸镀/磁控溅射/离子束溅射/原子层沉积

●镀膜设备及品牌:真空蒸镀(UlVAC)/磁控溅射MS(ULVAC)/离子束溅射IBS(Vecco)/PLD脉冲激光沉积/原子层沉积ALD(Beneq)/等离子增强气相沉积PECVD/LPCVD低压气相沉积

●薄膜材质:(本文所有材料均支持6寸,部分材料支持8寸和12寸)

     金属膜:Au/Ag/Cu/Al/Cr/Ti/Ni/Pt/Mo

 

  非金属材料:                              SiO2/ITO/TiO2/HfO2/ZrO2/Ta2O3/ZnO/Ga2O3/NIO/CeO/Al2O3/BaTiO3/BiFeO3/GST/SrAlO3/ITO/IZO/IGZO/Si/SiN

●应用:MEMS传感器/IGBT器件/陶瓷金属化/AR/菲林片/柔性传感器/工业码盘


关于我们:半导体微纳实验室(NANOFAB)

我们为客户提供晶圆(硅晶圆,玻璃晶圆,SOI晶圆,GaAs衬底,蓝宝石衬底,碳化硅衬底,金刚石衬底),镀膜方式(PVD和Ald)和材料Au Cu Ag Pt Al Cr Ti Ni Sio2 Tio2 Ti3O5),光刻,高精度掩模版,外延,掺杂,电子束光刻等产品及加工服务,请找小编领取我们晶圆标品库存列表,为您的科学实验加速。1.png2.png

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关于我们:

OMeda成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合)等领域拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务

中国(上海)自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话:+86 188 233 40140 251774338@QQ.com

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