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本文小编向大家介绍的是双光子3D打印的能力和技术能力。
设备型号：Nanoscribe Photonics Pro GT2
加工精度:
光刻胶的折射率：1.56
特征尺寸：横向200nm,纵向400nm
深宽比：5比1
尺寸：500um*500um
高度：100um以内
可以加工的基底材质：
玻璃，硅，光纤端面等
业务流程：
1.依照我们加工精度设计想要打印的结构，并输出STL文件
2.我们收到图纸后，评审并报价
3.签署合同并加工制作
应用领域及案例展示：
a.光纤端面打印透镜来实现对光斑的整形或者成像
b.在激光器EEL芯片或者硅光芯片波导或者VCSEL芯片出光口打印透镜实现对光斑的整形
C.打印3片式透镜结构来实现成像效果
D.打印超透镜和衍射透镜
E.打印微流控芯片
F.打印其他类型的3D结构
案例展示：
本文小编向大家介绍的是双光子3D打印的能力和技术能力。
设备型号：Nanoscribe Photonics Pro GT2
加工精度:
光刻胶的折射率：1.56
特征尺寸：横向200nm,纵向400nm
深宽比：5比1
尺寸：500um*500um
高度：100um以内
可以加工的基底材质：
玻璃，硅，光纤端面等
业务流程：
1.依照我们加工精度设计想要打印的结构，并输出STL文件
2.我们收到图纸后，评审并报价
3.签署合同并加工制作
应用领域及案例展示：
a.光纤端面打印透镜来实现对光斑的整形或者成像
b.在激光器EEL芯片或者硅光芯片波导或者VCSEL芯片出光口打印透镜实现对光斑的整形
C.打印3片式透镜结构来实现成像效果
D.打印超透镜和衍射透镜
E.打印微流控芯片
F.打印其他类型的3D结构
案例展示：
微针阵列
关于我们：
OMeda成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。目前拥有员工15人，在微纳加工（涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合）等领域拥有丰富的经验。 同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验，为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务
中国（上海）自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话：+86 188 233 40140 251774338@QQ.com
来源：OMeda
