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                       大面积超结构及其他微纳结构加工解决方案

                                  
                                 超结构

大面积超结构及其他微纳结构加工解决方案

背景：

目前在市场上大家加工超结构的加工方式主要为ebl+干法刻蚀。这种加工方式的优点是，精度高，金属类结构可以达到50nm线宽，氧化物和氮化物可以达到80-100nm的最小线宽。

但是由于采用的方式为电子束光刻的方式，因此成本是巨大的，举例，一个1mm*1mm的图案差不多2-3万元，而一个20*20mm的图案，差不多就要20万元左右。  

雪上加霜的是，我们付出了如此大的代价，最后只能得到一个样品，这个样品的宝贝程度不亚于金子，这样我们在做实验的时候，就像拿着宝贝疙瘩一样谨慎、生怕弄坏了。

紫外光刻技术相对于电子束光刻技术，具有较好的量产效率和较低的量产成本。

国内有很多超结构企业，目前遇到的一个核心困境就是国内缺足够的高精度的光刻机 比如几十nm线宽的12寸量产型光刻机，因此国内很多超结构企业的流片都在国外fab厂进行。

针对国内的科研工作者的超结构及其他微纳结构加工难题；

小编正式推出 

6寸最小线宽150nm 超结构及微纳结构 镀膜+光刻+刻蚀 一站式服务

采用佳能krf紫外光刻机，最小线宽150nm，比例5:1,成本主要包含 掩模版 镀膜 光刻 刻蚀这4套基本工艺流程，其中最贵的掩模版为一次性投入，其余为做单片时的投入。性价比超高，每次加工可得一整个晶圆 。

当然 ，本方案的缺点在于，设备的最小线宽仅为150nm，更高精度可能还是需要寻求更高精度的光刻机或者ebl加工。

设备:佳能150nmDUV光刻机

尺寸:6英寸

最高可加工精度:150nm

6寸超结构整版加工预计成本:3-6万(单片)，

其中掩膜版为一次性投入，后续增加片数仅收取光刻，刻蚀费用。

最大单元尺寸:22*22mm

对准精度:40nm

材料：非晶硅，TiO2,SiO2,LiNbO3,Si3N4 GaN，Ta2O5，Al,Au,GaAs...更多材料体系

应用领域：超结构，光栅，mems，光子集成线路，,,,,,

划重点：

我们为客户提供晶圆（硅晶圆，玻璃晶圆，SOI晶圆，GaAs，蓝宝石，碳化硅（导电非绝缘），金刚石，GaN（外延片/衬底）），镀膜方式（PVD,cvd,Ald，PLD）和材料（Au Cu Ag Pt Al Cr Ti Ni Sio2 Tio2 Ti3O5，Ta2O5,ZrO2,TiN，ALN,ZnO,HfO2。。更多材料），键合（石英石英键合，蓝宝石蓝宝石键合，Au-Au Au-Si Si3N4-Glass）光刻(DUV-电子束)，高精度掩模版，外延，掺杂,电子束直写等产品及加工服务(请找小编领取我们晶圆标品库存列表，为您的科学实验加速。

EBL代工（非晶硅，TiO2,SiO2,GaN，Ta2O5，Al,Au,GaAs(PCSEL)...更多材料体系）,母版制作，铬版销售，纳米压印，DUV光刻超结构服务，

面向头部企业，研究单位等单位的可见光近红外波段超透镜仿真设计（从仿真设计到demo样品，国内前五设计团队，经验丰富，算法超前）

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