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特色工艺--超高性价比最小线宽6寸(最小线宽)紫外光刻大面积超结构及微纳结构解决方案
目前在市场上大家加工超结构的加工方式主要为ebl+干法刻蚀。...
2024/07/15
低损耗Si3N4薄膜制造工艺--采用PECVD低温沉积制造与流片厂兼容的超低损耗氮化硅光子学产品
本文分享一篇文章关超低损耗氮化光波导制造的基础,具有极低损耗...
2024/07/14
800nm超厚超低损耗Si3N4薄膜制造--采用LPCVD多步扭曲沉积+多步退火技术制造800nm超低损耗Si3N4光波导基片
本文小编分享一篇文章,关于超低损耗SiN4薄膜的超厚800n...
2024/07/14
关于我们

OMeda(上海奥麦达微)成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合,键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学,激光器,光子集成电路,Micro LED,功率器件等行业。 我们将凭借先进的设备、仪器和经验,为您带来可靠性、性能优良的产品和高效的服务。

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